1.2亿美元一台的光刻机被中国员工窃密?ASML总裁都忍不住回应

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1.2亿美元的光刻机被中国员工偷走了? ASML总裁不禁回应

雷锋说。最近,外国媒体报道称,中国员工窃取了荷兰公司ASML Holding NV的商业机密,并将其泄露给中国政府。 ASML是中芯国际购买1.2亿美元EUV光刻机的卖方。中芯国际2017年的全部净利润,“ASML中国员工偷窃秘密”也在半导体行业受到广泛关注。

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图片来自ASML官方网站

审查盗窃事件

雷锋获悉,这一消息来自荷兰当地媒体(Financieele Dagblad),该媒体报道称,几名中国员工从ASML的美国子公司窃取了商业机密,导致ASML损失了数亿美元。

据相关报道,这些中国员工是ASML研发部门的员工。他们有权访问美国ASML圣何塞的内部网络。他们利用自己的职位窃取设备,软件,公司定价策略和内部使用的源代码。设备手册并将信息传递给ASML竞争对手XTAL。

那么,XTAL真的会窃取ASML的商业机密吗?至少从法院的判决来看,情况确实如此。在2018年11月,ASML以“窃取商业机密”为由起诉XTAL。法院正式裁定XTAL必须向ASML支付2.33亿美元的赔偿金。然而,一个月后,XTAL申请破产。

XTAL于2014年在美国硅谷成立。虽然它的成立时间比ASML晚了十多年,但由于ASML独特的市场地位,客户仍然希望几家公司能够同时竞争。例如,三星是XTAL的客户,但显然XTAL未能突破ASML的技术加上商业障碍。

在外交部发言人陆伟4月11日举行的例行记者招待会上,一位记者问道:“荷兰一家金融媒体报道称,荷兰半导体行业ASML的中国高管窃取了该公司的商业机密,造成巨额利润。损失,并表示这些技术被泄露给了中国政府。中国对此有所了解吗?评论是什么?“

陆伟:我们注意到了这个报道,但不明白你提到的具体情况。事实上,中荷两国在科学技术领域始终保持着良好的合作关系。我们多次重申,中国政府高度重视知识产权保护。我们一直要求海外中国公民和企业遵守东道国的法律。

至于中国本身,中国的科技发展不是基于偷窃,第二是不依赖抢劫。中国人民用自己的智慧和汗水努力工作。

ASML总裁之声

ASMIL总裁兼首席执行官Peter Wennink也是第一个回应芯片和大国关系等敏感话题的人。 ASML不同意它是“中国间谍”的受害者。

“我们在某种程度上成为国家阴谋的受害者的言论是错误的。事实是,我们被硅谷的一小群员工”抢劫“,他们违反法律”摧毁公众的脂肪“。所有这一切都发生了在几年之前。我们自己发现了这一点并立即在2016年在公共法庭上寻求法律诉讼。在我们2018年11月的胜利之后,我们在几份报告中表明了这一点,“Peter Wennink说。

ASML官员表示,所有国家的员工窃取的面具优化软件只是ASML产品和服务组合的一小部分,其目标是创建一个有竞争力的产品并将其出售给韩国现有的ASML客户(应该是三星), XTAL的资金来自韩国。目前尚不清楚从现在破产的XTAL中可以从多大程度上收回2.33亿美元的损失赔偿金。

“我们不喜欢任何有关此事件对ASML在中国业务有任何影响的建议。有些人恰好是中国公民,但其他国家的人也参与其中。我们注重保护我们的专有技术和信息安全。非常敏感。我们相信,我们可以为包括中国客户在内的所有客户提供服务,并帮助他们建立业务。最近,欧盟与中国之间的建设性谈判和协议加强了中国对非中国公司知识产权的尊重和保护。包括有效的执法行动,当我们看到这些行动在中国法律和审判中实施时,我们感到鼓舞,“温宁说。

根据ASML的官方网站,ASML在16个国家的60多个城市设有办事处,总部位于荷兰Veldhoven,拥有超过23,000名员工。

非ASML不可用?

“生产决定消费”,ASML在半导体行业中的地位是如此不可替代,即便是英特尔,三星和台积电也只能等待ASML供应。尽管ASML的研发进展缓慢,但三大公司已经投入数十亿美元来帮助ASML开发EUV光刻和18英寸晶圆,这显示了光刻的高门槛。

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EUV光刻机视角(雷锋网来自ASML官方网站)

顾名思义,光刻机使用光来雕刻电路,而蚀刻机也称为掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩模对准光刻,因此被称为掩模对准系统。一般的光刻工艺经受硅晶片表面的清洁,干燥,涂覆,旋涂,软烘烤,对准曝光,后烘烤,显影,硬烘烤,蚀刻等步骤。

光刻意味着使用光来制作图形(过程)。集成电路的生产可分为三个步骤:

模板用于从晶片表面去除保护膜。

将晶片浸入化粪池中,并且丢失保护膜的部分被蚀刻掉以形成电路。

残留在晶片表面上的杂质用纯水洗涤。

此过程类似于照片打印。光线通过镜头聚焦在胶片上。胶片上的敏化剂随着光线而变化。在接收膜上的光之后已经改变的敏化剂由显影剂显影和固定,以形成对比色或互补色。图片。光刻集成电路的载体变为晶片,并且成像变为电路。

该芯片被称为工业用油,光刻机被称为半导体工业的宝石。目前,ASML占据了行业的绝对主导地位。一方面,高端工艺是无与伦比的,另一方面,市场份额非常高,其次是后者尼康和佳能技术相隔一代或两代。 2017年,全球光刻机总数为294台,ASML出货量为198台,占市场总量的68%。在较高端的EUV光刻机中,ASML份额为100%。

2017年ASML单一EUV机器的价格超过1亿欧元,2018年第一季度的价格接近1.2亿欧元,但这仍然是无价的,而且容量有限。

EUV光刻机中的EUV是指波长为13.5nm的极紫外光。普通的DUV光刻机使用193nm的深紫外光。 EUV光刻机可以大大提高半导体工艺水平,实现7nm及以下的工艺。更重要的是,这是半导体摩尔定律继续存在的基础。目前的摩尔定律不是芯片设计的问题。纯粹的材料技术不符合标准,ASML可以提供更复杂的设备,几乎是行业的最上游。

根据英特尔的计划,EUV光刻机早在2005年就应该投入使用,但这显然低估了材料科学的难度。 EUV波长仅为13纳米,光能和破坏性极高,是该工艺的所有部件和材料。样品挑战过程限制,机械动作误差以皮秒(千分之一秒)为单位测量。

对于有兴趣发展国内半导体产业的中国而言,光刻机也是必须要突破的。 看看更多